SwissLitho AG携EVG开发造3D光学结构的联合纳米压印光刻解决方案

虽然可以在纳米级3D打印微光学，但创始公司SwissLitho AG制造新型纳米光刻工具，希望革新纳米制造。由于与EV集团（EVG）的新合作伙伴关系，EV集团（EVG）为制造半导体、微机电系统（MEMS）和纳米技术设备提供晶圆接合和光刻设备和工艺解决方案。近日，两家公司宣布，他们将开发出首个联合纳米压印光刻（NIL）解决方案，可用于在单纳米尺度上生产3D光学结构。

独特的解决方案将使用SwissLitho的新型NanoFrazor系统制作3D结构NIL主模板，将以高吞吐量与EVG的HERCULES NIL系统进行复制，该系统具有公司的SmartNIL技术。

NanoFrazor提供减色热扫描探针光刻技术支持，该光刻技术是由IBM Research Zurich发明的，后来被SwissLatho收购。它围绕无掩模、直写式光刻方法，在图案化之前将热敏抗蚀剂旋涂到样品表面上。抗蚀剂被局部分解并蒸发，使用加热的超尖尖，同时检查书写的纳米结构。最终的抗蚀剂图案可以通过诸如电镀、成型和剥离的方法转移到许多其它材料中。据该公司称，该过程实际上可以被描述为“在纳米尺度上进行反3D打印”。

“我们开发了NanoFrazor系列，为昂贵的电子束光刻系统提供高性能且经济实惠的替代方案和扩展。该技术允许在一个步骤中制造具有许多“级别”的主机。SwissLitho首席执行官Felix Holzner博士说：“与传统电子束或灰度光刻方法相比，具有单一纳米精度的3D结构可以更容易地制造并具有更高的保真度。我们期待与客户合作，将其技术与EVG在奥地利NILPhotonics能力中心的SmartNIL流程相结合。”

SwissLitho的NanoFrazor工具可以首次用于制造新的电气、光学、磁性和生物纳米器件。对于EVG的联合解决方案，将使用NanoFrazor系统创建印记主人，与更典型的方法（如电子束）相比，该系统可以打印出非常精确的3D结构。

将使用公司的大面积纳米压印SmartNIL在EVG的HERCULES NIL系统上创建用于生产使用的工作模板。HERCULES NIL将抗蚀剂加工、大批量制造解决方案和EVG的NIL专业技术结合到一个集成系统中，为200-mm晶圆提供高达40 wph的吞吐量。

该系统具有模块化的可配置平台，可以适应多种结构尺寸和压印材料，因此制造客户可以享受更多的灵活性。并且它的操作简单，可以通过其大功率灯具更快的固化，并提供自动压印和控制的低力分离，以实现最大的工作重印性。此外，由于无法使用HERCULES NIL来制作多次使用的软印，因此扩展了主印记模板的使用寿命。

“SwissLitho的NanoFrazor解决方案与EVG的SmartNIL技术具有很强的互补性。”EV集团公司技术总监Thomas Glinsner博士说：“我们可以一起提供完整的NIL解决方案，用于涉及3D结构图案的光子学和其他应用，为两家公司提供了扩大客户群和市场覆盖面的重要机会。我们的NILPhotonics能力中心将是对这个联合解决方案感兴趣的客户的第一个联系人，我们将能够提供可行性研究、示范和试点生产。”

联合解决方案首先在一个由欧盟第七框架计划资助的项目中展示，称为“超越CMOS器件（SNM）单纳米制造”。SwissLitho和EVG将一起首先使用该解决方案来开发衍射光学元件，以及支持目标应用程序（如数据通信、增强/虚拟现实和光子学）的其他相关光学组件。这些公司还表示，该解决方案甚至可能“扩大到生物技术、纳米流体和其他纳米技术应用”。

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