微米和纳米科技材料

SwissLitho AG携EVG开发造3D光学结构的联合纳米压印光刻解决方案

虽然可以在纳米级3D打印微光学,但创始公司SwissLitho AG制造新型纳米光刻工具,希望革新纳米制造。由于与EV集团(EVG)的新合作伙伴关系,EV集团(EVG)为制造半导体、微机电系统(MEMS)和纳米技术设备提供晶圆接合和光刻设备和工艺解决方案。近日,两家公司宣布,他们将开发出首个联合纳米压印光刻(NIL)解决方案,可用于在单纳米尺度上生产3D光学结构。

SwissLitho AG携EVG开发造3D光学结构的联合纳米压印光刻解决方案

SwissLitho AG携EVG开发造3D光学结构的联合纳米压印光刻解决方案

独特的解决方案将使用SwissLitho的新型NanoFrazor系统制作3D结构NIL主模板,将以高吞吐量与EVG的HERCULES NIL系统进行复制,该系统具有公司的SmartNIL技术。

NanoFrazor提供减色热扫描探针光刻技术支持,该光刻技术是由IBM Research Zurich发明的,后来被SwissLatho收购。它围绕无掩模、直写式光刻方法,在图案化之前将热敏抗蚀剂旋涂到样品表面上。抗蚀剂被局部分解并蒸发,使用加热的超尖尖,同时检查书写的纳米结构。最终的抗蚀剂图案可以通过诸如电镀、成型和剥离的方法转移到许多其它材料中。据该公司称,该过程实际上可以被描述为“在纳米尺度上进行反3D打印”。

“我们开发了NanoFrazor系列,为昂贵的电子束光刻系统提供高性能且经济实惠的替代方案和扩展。该技术允许在一个步骤中制造具有许多“级别”的主机。SwissLitho首席执行官Felix Holzner博士说:“与传统电子束或灰度光刻方法相比,具有单一纳米精度的3D结构可以更容易地制造并具有更高的保真度。我们期待与客户合作,将其技术与EVG在奥地利NILPhotonics能力中心的SmartNIL流程相结合。”

SwissLitho的NanoFrazor工具可以首次用于制造新的电气、光学、磁性和生物纳米器件。对于EVG的联合解决方案,将使用NanoFrazor系统创建印记主人,与更典型的方法(如电子束)相比,该系统可以打印出非常精确的3D结构。

将使用公司的大面积纳米压印SmartNIL在EVG的HERCULES NIL系统上创建用于生产使用的工作模板。HERCULES NIL将抗蚀剂加工、大批量制造解决方案和EVG的NIL专业技术结合到一个集成系统中,为200-mm晶圆提供高达40 wph的吞吐量。

SwissLitho AG携EVG开发造3D光学结构的联合纳米压印光刻解决方案

该系统具有模块化的可配置平台,可以适应多种结构尺寸和压印材料,因此制造客户可以享受更多的灵活性。并且它的操作简单,可以通过其大功率灯具更快的固化,并提供自动压印和控制的低力分离,以实现最大的工作重印性。此外,由于无法使用HERCULES NIL来制作多次使用的软印,因此扩展了主印记模板的使用寿命。

“SwissLitho的NanoFrazor解决方案与EVG的SmartNIL技术具有很强的互补性。”EV集团公司技术总监Thomas Glinsner博士说:“我们可以一起提供完整的NIL解决方案,用于涉及3D结构图案的光子学和其他应用,为两家公司提供了扩大客户群和市场覆盖面的重要机会。我们的NILPhotonics能力中心将是对这个联合解决方案感兴趣的客户的第一个联系人,我们将能够提供可行性研究、示范和试点生产。”

SwissLitho AG携EVG开发造3D光学结构的联合纳米压印光刻解决方案

联合解决方案首先在一个由欧盟第七框架计划资助的项目中展示,称为“超越CMOS器件(SNM)单纳米制造”。SwissLitho和EVG将一起首先使用该解决方案来开发衍射光学元件,以及支持目标应用程序(如数据通信、增强/虚拟现实和光子学)的其他相关光学组件。这些公司还表示,该解决方案甚至可能“扩大到生物技术、纳米流体和其他纳米技术应用”。

延伸阅读:《Lanterman Group&America发起名为“ACADEMI”的国家3D打印培训项目

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