微米和纳米

中国芯新秀:光刻机两大核心技术已攻克其一,高速转精度达2纳米

光刻机的两大核心技术

光刻机有两大最核心技术:一个是EUV曝光系统,另一个是双工件台。EUV曝光系统,中国还比较落后,主要是长春光机所在主导研发,经8年的艰苦研发,目前能造32纳米芯片的EUV曝光系统已经研发成功。虽然还不先进,但中国已经建立了完善的EUV曝光系统关键技术的完整研发平台。而双工件台,中国获得了重大突破,成为全球第二个掌握这个技术的国家。

中国芯新秀:光刻机两大核心技术已攻克其一,高速转精度达2纳米

光刻机的双工件台和单工件台的区别

双工件台是高端光刻机两大最核心技术的其中一个。目前只有荷兰ASML量产了,中国也已经出了两台样机,美国和日本都还没有这个技术。美国和日本掌握的单工件台,它的生产速度只有可怜的每小时80片,而双工件台,它的生产速度竟然可以高达每小时270片~300片。效率一个天上一个地上。这也是为什么荷兰ASML的光刻机这么贵,仍可以霸占90%以上的全球光刻机市场份额,双工件台的优势,是一个非常重要的原因。

中国芯新秀:光刻机两大核心技术已攻克其一,高速转精度达2纳米

中国光刻机双工件台的实力

中国65纳米干式光刻机,已经获得6台订单。而需要双工件台的浸没式光刻机,已经出来两台样机,但真正的交付给客户的首台时长,要等到2019年。双工件台的研发,是完全自主知识产权,获得了4.2亿的国家补助,只要钱够,中国的研发实力还是很强大的。中国的光刻机双工件台,其实就只有荷兰一个竞争对手。

光刻机双工件台,被称为超精密技术皇冠上的明珠,精度要求非常高,而且是高速运动的。中国双工件台在高速运动的情况下,也能达到2纳米的运动精度,已经接近荷兰双工件台的精度。

中国芯新秀:光刻机两大核心技术已攻克其一,高速转精度达2纳米

中国高端光刻机的短板

荷兰ASML已经完全垄断了高端光刻机的技术。荷兰是唯一一个已经量产EUV光刻机的国家,并完全掌握两大最核心技术,其光刻机的曝光镜头有德国的强力支持,能够生产3纳米的芯片,并且全球率先支持双工件台。

而EUV曝光系统就是中国高端光刻机的短板,日本的曝光系统,能够支持20纳米的芯片生产,比中国的32纳米要先进不少。但日本的高端光刻机双工件台的还没有研发成功,由于在两大核心技术方面都远远落后荷兰ASML,目前日本已经放弃了更高端光刻机的研发。也就是说,全球只有中国没有放弃追赶荷兰ASML,没有放弃研发20纳米以下的高端光刻机。

只要中国有耐心,够坚持,补足高端光刻机的技术短板。在5年内,就有机会造出领先美日仅次荷兰的高端光刻机,在10年~15年内能大成。

你可能还喜欢

发表评论

您的电子邮件地址将不会发布。

此站点使用Akismet来减少垃圾评论。了解我们如何处理您的评论数据