微米和纳米科技材料

称不用EUV!中芯国际将在第四季试产7纳米,国产化终于来了

相信大家对中芯国际并不陌生,此前由于美国的多方阻挠,中芯国际原本花费1.2亿美元从荷兰订购的EUV光刻机设备交付遥遥无期,外界担忧中芯国际只能徘徊在14nm左右。因为EUV光刻机是实现7nm以下先进制程工艺必不可少的设备。

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但是现在好的消息是,中国半导体大厂中芯国际将于今年第四季量产14纳米并且投入7纳米的试产,预其明年也能正式量产,称不用EUV。

称不用EUV!中芯国际将在第四季试产7纳米,国产化终于来了

中芯国际已经规划了N+1、N+2制程工艺。新制程工艺N+1作为14纳米的后继者,而且性能相比14纳米性能提高了近20%,也被称为7纳米制程的开始。而且N+2制程工艺更加突出,同样被称为第二代7nm工艺。

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其实台积电、三星在发展7nm工艺方面,同样发展了3种制程。中芯国际此次新制程不直接以节点命名,或许也是新思路发展7nm策略的一环。中芯表示这两种制程都不需要使用EUV光刻机就能完成。若7纳米明年真能在缺乏EUV设备的情况下顺利量产,会是个好消息。

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值得注意的是中芯国际目前量产的最先进制程为第一代FinFET 14nm工艺,该工艺已经成熟产量,产能已经在逐步提升,2019年第四季度已贡献1%营收。如果有了最新的EUV光刻机,就意味着中芯国际也有了生产7nm芯片的能力,中芯国际和台积电的代差也越来越小,具有梁孟松和光刻机的中芯国际,将会越过10nm跨代研发7nm。

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而现在由于美国从中作梗,中芯国际没能获得最新的7nm EUV光刻机,所以只能按照三步走,逐渐向7nm成熟工艺靠拢。大家怎么看?

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